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Caractérisation et modélisation des effets d'empilement des couches minces sous la résine photosensible pendant le procédé de photolithographie optique
| Content Provider | Semantic Scholar |
|---|---|
| Author | Michel, Jean-Christophe |
| Copyright Year | 2014 |
| Abstract | La photolithographie optique assure en partie a la microelectronique la miniaturisation des circuits electroniques. Afin de faire face a la limite de resolution de l'equipement de photolithographie, les industriels ont mis au point des techniques d'amelioration de la resolution dont certaines sont basees sur l'utilisation de la modelisation numerique. Jusqu'au nœud technologique 45 nm, cette modelisation ne prenait pas en compte la presence de plusieurs empilements de materiaux sous la resine photosensible negligeant ainsi les phenomenes de reflexion, de diffraction et d'ondes stationnaires. Pour les nœuds 32 nm et suivants, ces phenomenes rendent difficile le controle de la forme et des dimensions des motifs resine notamment pour les niveaux dont l'exposition s'effectue sans couche antireflet. Cette these CIFRE entre le laboratoire Hubert Curien de Saint- Etienne et l'industriel STMicroelectronique de Crolles traite de la caracterisation, de la modelisation et de la simulation numerique des effets d'empilement sous la resine photosensible. Le premier chapitre regroupe un ensemble de pensees sur la microelectronique, son histoire et definit les notions essentielles de ce domaine et de la modelisation numerique. Les chapitres deux et trois donnent respectivement l'etat de l'art de la photolithographie optique et des techniques de correction des effets de proximite optique. Le chapitre quatre presente l'etude experimentale, de la conception des structures test a la caracterisation des effets d'empilement en passant par le protocole de creation des groupes de donnees. La prise en compte de ces effets est l'objet du chapitre cinq avec l'etat de l'art des techniques existantes suivi de la description de l'algorithme de construction de modeles developpe dans cette these. Enfin l'application de la methode des sources generalisees a la photolithographie optique est evaluee dans le chapitre six |
| File Format | PDF HTM / HTML |
| Alternate Webpage(s) | https://tel.archives-ouvertes.fr/tel-01512658/file/These-MICHEL-JChristophe-2014.pdf |
| Alternate Webpage(s) | https://tel.archives-ouvertes.fr/tel-01512658/document |
| Language | English |
| Access Restriction | Open |
| Content Type | Text |
| Resource Type | Article |
