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Etude de la stabilité et de la précision des modèles utilisés dans la correction des effets de proximité optique en photolithographie
| Content Provider | Semantic Scholar |
|---|---|
| Author | Saied, Mazen |
| Copyright Year | 2011 |
| Abstract | A l’heure actuelle, les modeles photochimiques utilises dans la correction des effets de proximiteoptique (OPC) en photolithographie sont devenus complexes et moins physiques afin de permettre decapturer rapidement le maximum d’effets optiques et chimiques. La question de la stabilite de tels modelespurement empiriques est devenue d’actualite. Dans ce memoire, nous avons etudie la stabilite desmodeles photochimiques actuels en examinant les differentes causes d’instabilite vis-a-vis des parametresdu procede. Dans la suite, nous avons developpe une methode perturbative permettant d’evaluer le criterede la stabilite. L’obtention de modeles simples et stables nous conduit a separer les effets optiques desautres effets chimiques. De plus, les approximations utilisees dans la modelisation des systemes optiquesoperant a grande ouverture numerique entrainent des erreurs residuelles pouvant degrader la precisionet la stabilite des modeles OPC. Ainsi, nous nous sommes interesses a etudier les limites de validitede l’approximation de Kirchhoff, methode qui, jusqu’a present, est la plus utilisee dans la modelisationdu champ proche d’un masque. D’autres methodes semi-rigoureuses, permettant de modeliser les effetstopographiques, ont ete egalement evaluees. Ces methodes approchees permettent de gagner en precisionmais degradent le temps de calcul. Nous avons ainsi propose differentes facons de corriger les effetstopographiques du masque, tout en gardant l’approximation de Kirchhoff dans la modelisation de la partieoptique. Parmi les methodes proposees, nous exploitons celle permettant de reduire les erreurs lieesaux effets topographiques du masque par l’intermediaire d’un second modele empirique. Nous montronsque pour garantir une precision adequate, il est necessaire d’augmenter la complexite du modele en rajoutantdes termes additionnels. Enfin, pour garantir la stabilite numerique du modele empirique, nousintroduirons une nouvelle methode approchee hybride rapide et precise, la methode des multi-niveaux,permettant d’inclure les effets topographiques par decomposition multi-niveaux du masque fin et discuteronsses avantages et ses limites. |
| File Format | PDF HTM / HTML |
| Alternate Webpage(s) | https://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00682907/document |
| Language | English |
| Access Restriction | Open |
| Content Type | Text |
| Resource Type | Article |
