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Etude numérique et expérimentale de la croissance de couches minces déposées par pulvérisation réactive.
| Content Provider | Semantic Scholar |
|---|---|
| Author | Siad, Ahcene |
| Copyright Year | 2016 |
| Abstract | L’objectif de ce travail est de determiner experimentalement les parametres d’entree des logiciels de simulation, puis de comparer les resultats experimentaux et numeriques pour differents metaux ainsi que pour leurs oxydes. La configuration GLAD a ete volontairement choisie pour les structures inclinees particulieres qu’elle permet.Le processus de formation de depot en phase vapeur (PVD) peut etre divise en trois etapes : l'ejection d'atomes de la cible, le transport vers le substrat et la croissance des couches minces. Chacune est simulee par un logiciel : SRIM pour l’ejection de matiere de la cible suite a l’impact avec un ion, SIMTRA pour le transport des atomes de la cible jusqu’au substrat et Simul3D pour la croissance des depots. L’evolution des proprietes des couches inclinees (angle d’inclinaison des colonnes β, epaisseur de la couche, contraintes residuelles, etc) en fonction de la position et de l’angle d’orientation du substrat est etudiee.Les resultats experimentaux et numeriques se completent mutuellement et permettent une meilleure comprehension des nombreux aspects de l’etude. |
| File Format | PDF HTM / HTML |
| Alternate Webpage(s) | https://pastel.archives-ouvertes.fr/tel-01418118/document |
| Language | English |
| Access Restriction | Open |
| Content Type | Text |
| Resource Type | Article |