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Etude et validation de nouveaux nano-émetteurs destinés à la microscopie optique en champ proche : développement de pointées fonctionnalisées
| Content Provider | Semantic Scholar |
|---|---|
| Author | Sanabria, Suarez Ángel, Miguel |
| Copyright Year | 2006 |
| Abstract | Un des problemes majeurs et non encore resolu en microscopie optique champ proche est le choix de l'emetteur ou du capteur optimal. Parmi les techniques developpees, l'utilisation de sondes metalliques a conduit aux resolutions les plus elevees. L'inconvenient de ces nano-sondes realisees a partir de fil metallique, est leur opacite. Une solution hybride combinant un milieu transparent et une couche metallique, par exemple une fibre optique taillee en pointe et metallisee, presente l'interet a la fois du guidage de la lumiere et de l'existence d'un certain confinement du champ lumineux. Toutefois ces nano-sondes, largement utilisees, presentent de nombreux inconvenients dont le principal est la faible quantite de lumiere transmise ou captee. L'introduction du concept de pointe fonctionnalisee est envisagee dans ce travail afin de remedier a cette carence, en optimisant par segmentation adequate de la couche metallique, le transfert electromagnetique de ou vers la pointe. Il s'agit ni plus ni moins de la transposition dans le domaine optique du principe de l'antenne segmentee. Ce travail constitue le debut d'un vaste sujet de recherche portant sur la fonctionnalisation des sondes destinees a la microscopie champ proche. Nous avons realise dans cette etude le cas d'un anneau metallique nanometrique suivant deux approches, theorique et experimentale, menees en parallele. Pour l'approche theorique, nous nous sommes appuyes sur des simulations numeriques a partir d'un code de calcul commercial base sur des differences finies spatio-temporelles FDTD, et sur une approche analytique modale d'un cylindre metallique infini. Pour la partie experimentale, nous avons mis en place des procedes de fabrication d'anneaux nanometriques assistee par lithographie electronique classique et nous proposons un procede original qui combine la lithographie electronique et une attaque ionique argon, afin de surmonter les limites de resolution imposees par les performances de nos appareillages (MEB). Toutes ces techniques ont ete realisees au sein de la centrale de technologie MIMENTO de l'Institut FEMTO-ST. |
| File Format | PDF HTM / HTML |
| Alternate Webpage(s) | https://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00373790/document |
| Language | English |
| Access Restriction | Open |
| Content Type | Text |
| Resource Type | Article |
