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Analyse des propriétés de sorption de la silice vis-à-vis des bases et des espèces cationiques par les méthodes diélectriques et électrochimiques
| Content Provider | Semantic Scholar |
|---|---|
| Author | Despas, C. |
| Copyright Year | 1998 |
| Abstract | L'etude du comportement des silices synthetiques vis-a-vis des bases et des ions cuivriques a ete realisee dans le but de mieux connaitre les interactions ayant lieu a l'interface solide-solution. Deux types de silices ont ete considerees, un gel de silice a grande aire specifique et une silice dite de Stober qui se caracterise par une microporosite. Deux methodes ont ete principalement mises en oeuvre pour permettre l'analyse des phenomenes dans des conditions in situ et non destructives : la dielectricite et l'electrochimie aux electrodes a pâte de carbone modifiees par la silice. TI a ete montre pour la premiere fois que la mesure des pertes dielectriques sur la silice decantee dans une solution basique rend directement compte de la quantite de groupements silanol ionises. De meme, il a ete demontre que l'evolution du taux d'ionisation est peu liee a la force de la base mais est fortement dependante du degre de dissociation des groupements silanol conformement au modele de Sonnefeld. La spectroscopie Raman confirme la presence de groupements silanol de reactivite differente. Les billes de Stuber se comportent tout a fait differemment. En effet, en faisant reagir des bases moleculaires de differentes tailles, la propriete de tamis moleculaire a ete mise en evidence pour la premiere fois. L'ouverture des pores de ce materiau a ete estimee a 0,3 nm. Ses groupements silanol, majoritairement situes a l'interieur de sa structure, sont chimiquement reactifs et se comportent comme des groupements de surface lorsque le reactif est suffisamment petit que pour entrer librement dans la structure. L'application de la dielectricite pour suivre la fixation du cuivre(ll) en milieu ammoniacal demontre sans ambiguite le caractere covalent de la liaison SiO-Cu. L'insertion de la silice dans une electrode a pâte de carbone a permis d'etudier les processus d'adsorption-desorption du cuivre sur ce materiau en milieu ammoniacal. Elle demontre une selectivite tres marquee de la silice pour les ions cuivriques. Cette propriete a d'ailleurs ete exploitee pour la mise au point d'un capteur amperometrique du cuivre(ll) sur base du schema «accumulation en milieu ammoniacal - detection voltamperometrique en milieu acide ». La limite de detection obtenue pour un temps d'accumulation de 2 minutes a ete estimee a 10-8 mol l-1. |
| File Format | PDF HTM / HTML |
| Alternate Webpage(s) | http://docnum.univ-lorraine.fr/public/SCD_T_1998_0285_DESPAS.pdf |
| Language | English |
| Access Restriction | Open |
| Content Type | Text |
| Resource Type | Article |
